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【2h】

X-ray-emission studies of chemical bonding in transition-metal silicides

机译:过渡金属硅化物中化学键的X射线发射研究

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摘要

We present Si L2,3 emission-band spectra of a series of 3d and 4d transition-metal (TM) silicides, together wtih Si K emission-band spectra of four 3d TM disilicides. The data are compared with augmented-spherical-wave density-of-states (DOS) calculations, and good agreement is found. The trends we find are explained with a general scheme for chemical bonding in TM silicides. The differences between the experimental data and the calculated DOS curves are tentatively attributed to self-energy effects.
机译:我们介绍了一系列3d和4d过渡金属(TM)硅化物的Si L2,3发射带光谱,以及四种3d TM二硅化物的Si K发射带光谱。将该数据与增强球面波状态密度(DOS)计算进行比较,并且发现了很好的一致性。我们发现的趋势是通过用于TM硅化物化学键合的一般方案来解释的。实验数据与计算出的DOS曲线之间的差异暂时归因于自能量效应。

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